晶体管是电子行业中的一个常用元件，它可以稳定地控制电流和电压，可以按照设计要求调节电路，从而进行信号放大和信号调制，执行不同的功能。晶体管特征频率是测量晶体管特性参数的一项重要方法，它不受晶体管的类型和制造工艺的影响，而会受到晶体管的间距特性和物理结构的影响。
晶体管特征频率的测量主要包括两个过程：首先需要测量晶体管的介导频率fH和阻止频率fL。fH是晶体管从非放大状态到放大状态的频率；fL是晶体管从放大状态到非放大状态的频率。其次需要测量晶体管的集电极信号服从的频率，以及晶体管的放大倍数fA。fA指出的是晶体管从关断模式到开通模式的时候，它的输出电压增大了多少倍。
晶体管特征频率的测量技术不但能够提供晶体管的特性参数，还解决了使用不同型号晶体管而导致的参数变化带来的工作难度。该技术发展迅速，目前用于计算机中的芯片测试、家电器测试、电信设备测试、信息安全测试等多个方面。
晶体管特征频率的测量是用来测量晶体管特征参数的主要方法之一，它给电子行业重要的特征参数提供测量方法，方便调试，提出了很多的技术难题。
